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光微科技 NV08 CMOS图像传感器

光微科技 NV08 面阵TOF模组

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  • LDS6

  • CMOS图像传感器

  • Siemens 西门子

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  • Guangke 光科测控

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特性

  • 发电/燃烧工业 通过测量scr和sncr脱硝装置后面的氨滑差来监控和优化脱硝装置
  • 热废物处理: 通过快速测量炉膛和锅炉内的氧气浓度和气体温度来控制一次燃烧。 监测和优化烟气净化系统,测量废气净化前后的浓度。
  • 内燃机: 发动机试验台废气系统中氨滑移量的测定
  • 爆炸安全: 测量可燃气体(如CO和CH4)中的即时和内在save(Ex i)浓度或监测工艺流、储罐或筒仓中的氧气水平。
  • 防腐: 腐蚀性气体混合物中水分的快速和非侵入性监测。
  • 安装工作量小
  • 最低的维护要求
  • 极其坚固的设计
  • 内置、免维护的基准气体电池,无需现场校准,长期稳定性高
  • 实时测量

半导体激光气体分析仪LDS 6的基本设计为过程气体分析和连续发射监测提供了进一步的机会。原位法引入的主要优点在于,测量是非侵入式实时进行的,不会因气体取样或气体调节而产生任何干扰或延迟。总的优点取决于单个过程。在几乎任何情况下,优雅的方法导致更高的效率和更少的安装和维护工作。作为快速现场测量的结果,大多数工艺的盈利能力和环境兼容性都可以提高。,除了排放监测,还有一系列工业应用,其中半导体激光器已经被确立为工艺优化的标准工具。今天,在流程工业最重要的细分市场中,人们会发现:好处

LDS6 CMOS图像传感器技术参数

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特 性
特征 Audible or Visual Alarms; Hazardous Environment; Self Calibration; Temperature
电 气
电气输出 Current
连 接 & 显 示
显示 Digital
环 境
工作温度 41 to 113 F (5 to 45 C)
物 理
安装类型 Portable
更多技术信息
测量类型 %Volume (optional feature); Trace (optional feature)
气体类型 Toxic; NH3 (0 to 500 ppm); CO2 (0 to 100%); CO (0 to 100 %); HCl (0 to 6000 ppm); HF (0 to 200 ppm); O2 (0 to 100%)
仪表类型 Analyzer
应用 Continuous Emissions Monitoring; Process Gas
更多规格
产品类别 Gas Instruments
Number of Gases Monitored Multi
传感技术 Single-line Molecular Absorption Spectroscopy

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