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东莞市宏诚光学制品 匀胶铬版S5009 其它

东莞市宏诚光学制品 匀胶铬版S5009 光掩膜基版

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定义:


MASK BLANK:是一种硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料。



特点:

具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点



应用 :

 主要应用于:半导体芯片制造,显示面板行业、光学行业掩膜版、半导体显示器件、PCB等行业,


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