Hakuto 伯东 20 IBE-C IBE 离子束刻蚀机
Hakuto 离子束刻蚀机 20 IBE-C
-
登录 后询价或查看价格
-
20 IBE-C
-
Hakuto 伯东
-
请咨询供应商
-
Hakuto 伯东企业
产品介绍
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却
| 基板尺寸 | < φ3 inch X 8片 < φ4 inch X 6片 < φ8 inch X 1片 |
| 样品台 | 样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转 |
| 离子源 | |
| 均匀性 | ±10% for 8”Ф |
| 硅片刻蚀率 | 20 nm/min |
| 温度 | <100 |
NS 离子蚀刻机 20IBE-C 组成
离子束刻蚀机 IBE 特性:
1. 干法刻蚀, 物理蚀刻, 纳米级别的刻蚀精度
2. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状
3. 基板直接加装在直接冷却装置上,可以在低温环境下蚀刻.
4. 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%
5. 几乎满足所有材料的刻蚀, IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
6. 配置德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵7. 刻蚀机设计使用自动化的操作流程, 非常友好的使用生产过程
自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子刻蚀机. 刻蚀机配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵. 伯东公司超过 50年的离子束刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术! 上海伯东也是美国 KRi 离子源中国总代理, KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺.
若您需要进一步的了解离子束刻蚀机 IBE 详细信息,
请联络上海伯东: 叶女士 13918837267
上海伯东版权所有, 翻拷必究！
产品替代
声明：本产品内容及配图源自互联网收集或平台用户自行上传，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点或证实其内容真实性，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如涉及作品内容、版权等问题，请联系本网处理，侵权内容将在一周内下架整改。
IBE 离子束刻蚀机同类产品
加载中···
