深圳市龙图光罩股份有限公司 成立于2010年，是具备关键技术攻关能力，拥有自主知识产权的独立第三方半导体掩模版厂商。
公司主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售。公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代，半导体掩模版工艺节点从1μm逐步提升至130nm，产品广泛应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟IC等特色工艺半导体领域，终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。
公司将跟随国家半导体行业发展战略，围绕高端半导体芯片掩模版领域，持续加大研发投入，逐步实现90nm、65nm以及更高节点掩模版的量产与国产化配套，深耕特色工艺，突破高端制程，立志成为国内一流、国际领先的半导体光罩标杆企业。
公司文化
质量方针
全身心服务客户，全方位条件达标，全过程品质受控，全员持续改进；
核心价值观
服务客户、精准求实、诚信互助、持续创新、以人为本、五位一体。
经营理念
全面质量管理
企业愿景
成为半导体光罩领域的标杆企业
企业使命
为员工、客户、股东创造价值
荣誉资质
石英掩模版
石英掩模版（Quartz Mask）以高纯石英玻璃为基材，石英玻璃具有高透过率、高平坦度、低膨胀系数等优点，同时成本较高，通常应用于高精度掩模版产品。石英掩模版主要在半导体应用领域内使用，包括模拟IC、各种分立器件、MEMS以及平板显示等。
公司可提供多种尺寸和规格的光罩产品，制作精度覆盖130nm、180nm、250nm、350nm、500nm及以上芯片工艺节点，具体如下表所示：
苏打掩模版
苏打掩模版（Soda Mask）使用苏打玻璃作为基板材料，苏打玻璃热膨胀率相对高于石英玻璃，平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃，成本相对较低，通常应用于中低精度掩模版。苏打掩模版主要在精度要求较低的领域中使用，包括中低端半导体制造、半导体封装、光学器件、中低端显示面板、触控屏和电路板制造等领域。
技术服务
图形检查处理服务（MRC）
公司提供Mask Design Rule Check服务，客户可通过MRC对数据进行规则检查，MRC与芯片设计公司所使用DRC类似，可针对细微区域侦测异常设 计，防止流片过程中异常情形的发生；此外，公司还可提供Format Transferring, Floor Plan, Bias, Mirror, Scaling, Reticle Alignment Mark, Barcode等数据处理服务。
远程资料验证服务（JDV）
公司提供Job Deck View服务，客户可通过在线JDV方式对设计文件进行最终确认，公司可以支持的文件格式包括MEBES、GDSII、OASIS、DXF、DWG、CIF、TDB、DPF等。
光罩清洗服务
公司提供光罩清洗服务（Mask Cleaning Services），客户可以通过光罩清洗服务清洗光罩表面的颗粒，并重新对产品进行重新检测和测量，以确认产品是否可继续使用。
重贴膜服务
公司提供重贴膜服务（Pellicle Remount Services），客户可通过重贴膜服务，将划伤、破损、撕裂、沾污的光学膜去除，经过清洗、检测后再重新贴膜。
应用领域
集成电路
公司可提供高性能数模混合信号、电源管理、信号链、逻辑运算、数字信号处理等IC用光罩产品
功率器件
公司可提供IGBT（绝缘栅双极型晶体管）、MOSFET（沟槽式、分栅式、超级结等）、二级管、三级管、晶闸管、整流器等各种功率半导体器件所使用的光罩产品，此外还包括SiC、GaN等第三代半导体材料所使用的光罩产品
MEMS
公司可提供麦克风、压力传感器、超声波传感器、力学传感、光学传感、射频滤波器、高压模拟等产品用光罩产品
其他分立器件
公司可提供光电子器件包括发光二极管(LED)、光电二极管（PIN）、雪崩光电二极管（APD）、敏感器件及部分特种分立器件用光罩产品
先进封装
公司可提供6吋、8吋、12吋晶圆级、系统级IC封装用光罩产品，光罩尺寸包括6、9、14英寸等。
光学器件
公司可提供各种声光器件、电光器件、驱动器、激光镜片、衍射光学器件DOE、光学镜头、激光晶体、光路调节系统、量测设备、测量模具等产品用各类标准或非标准尺寸光罩。
