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深圳鑫宇杨
深圳市鑫宇杨电子科技有限责任公司 注册地址位于深圳市龙华区大浪街道华荣社区三合华侨新村C区33号702,注册机关为深圳市市场监督管理局,法人代表为肖兵,经营范围包括一般经营项目是:电子产品开发;销售;电子产品。电子元器件IC;电子材料,仪器仪表,国内贸易,货物及技术进出口。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES039XXXR2PJL是利用先进的硅电路工艺生产的两通道低电容静电放电保护器件,适合于DFN1006、SOT-23等多种封装外形;输入端对地不大于0.9pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流 (< 1μA) ;适合于高速数据传输线的ESD保护;输入端对地IEC61000-4-2(ESD):±15kV(空气放电);±8kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES042033R1PJL是利用先进的硅电路工艺生产的单通道超低电容瞬态电压抑制芯片,适合于SOD、DFN、FBP等多种封装外形;输入端对地不大于5pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电);±8kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES043067R2PJL是利用先进的硅电路工艺生产的两通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP、DFN等多种封装外形;输入端对地不大于1.2pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电);±10kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES050030P1(P)JL是利用硅外延工艺生产的小功率静电保护二极管芯片,适合于塑封;2ES050030P1JL为N型衬底,2ES050030P1PJL为P型衬底;优越的电压箝位能力;快速的响应速度;漏电流小;ESD>15KV(空气模式和接触模式)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES059033R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道超低电容瞬态电压抑制芯片,适合于SOT、MSOP、DFN等多种封装外形;输入端对地不大于0.6pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电);±10kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES059067R4P是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP、DFN等多种封装外形;输入端对地不大于0.8pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电)±10kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES060067R4PJLSC1是利用先进的硅电路工艺生产的4通道电压轨钳位型超低电容瞬态电压抑制芯片,适合于SOT、MSOP、DFN等多种封装外形;输入端对地不大于1.2pF的超低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电)±10kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES062067R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP、DFN等多种封装外形;输入端对地不大于1.2pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电);±10kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES063067R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP等多种封装外形;输入端对地不大于1.5pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流 (< 1μA) ;适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD):±20kV(空气放电);±15kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES065067R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP、DFN等多种封装外形;输入端对地不大于0.8pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电);±8kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES078067R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的4通道电压轨钳位型超低电容瞬态电压抑制芯片,适合于SOT、SO、MSOP、DFN等多种封装外形;输入端对地典型电容值为1.0pF;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES083067R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP等多种封装外形;输入端对地不大于2pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电);±10kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES092067R7PJL是利用先进的硅电路工艺生产的七通道低电容静电放电保护器件,适合于MSOP和DFN等多种封装外形;输入端对地不大于0.4pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电);±8kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES096067R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP等多种封装外形;输入端对地不大于2pF的低电容结构;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流 (< 1μA) ;适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD):±25kV(空气放电);±18kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES098180R4PYL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP等多种封装外形;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电)±12kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES125033R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP、SO等多种封装外形;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±30kV(空气放电);±30kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES136050R4PJL是利用先进的硅电路工艺专门为Bourns开发的四通道大电流静电放电保护器件,适合于SOT23-6封装外形;输入端对地大于25A的峰值电流;低钳位电压;快速的响应速度;适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±30KV(空气放电);±30KV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES156067R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道大电流静电放电保护器件,适合于SOP-8、SOT-23-6等封装外形;输入端对地大于30A的峰值电流;低钳位电压;快速的响应速度;适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±30kV(空气放电);±30kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES168067R2PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道低电容静电放电保护器件,适合于SOT、MSOP、DFN等多种封装外形;低钳位电压;快速的响应速度;低漏电流(< 1μA);适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±15kV(空气放电)±12kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES190060R2PJL是利用先进的硅电路工艺专门为Bourns开发的两通道大电流静电放电保护器件,适合于SOP-8封装外形;输入端对地大于100A的峰值电流;低钳位电压;快速的响应速度;适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±30KV(空气放电);±30KV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES196067R2PJL是利用先进的硅电路工艺生产的两通道大电流静电放电保护器件,适合于SOP-8封装外形;输入端对地大于100A的峰值电流;低钳位电压;快速的响应速度;适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±30kV(空气放电);±30kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2ES197033R4PJL是利用先进的硅电路工艺生产的四通道大电流静电放电保护器件,适合于SOP-8、DFN-10封装外形;输入端对地大于25A的峰值电流;低钳位电压;快速的响应速度;适合于高速数据传输线的ESD保护;IEC61000-4-2(ESD) :±30kV(空气放电);±30kV(接触放电)。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2GM151PPYL采用平面工艺技术制造,主要市场集中于红外接收头,红外光探测器及其光电转换等;2GM151PPYL适用于DIP、SMD等封装外形。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2KG023075XL是利用硅外延工艺生产的用于塑封的开关二极管芯片;利用该芯片封装的典型成品有1N4148(高速开关二极管);有多种厚度可选择,正面电极材料为铝,背面电极材料为金,以适合不同的塑封形式。
  • 光微科技 NV08 CMOS图像传感器

    2KG023075YQ是利用硅外延工艺生产的通用开关二极管芯片,有适合各种封装的正面和背面电极引出形式;利用该芯片封装的典型成品有1N4148(高速开关二极管);作为玻封用的芯片,正面电极材料为银球,背面电极材料为银。
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