三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机

日本三井化学宣布将在岩国大竹厂设立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线开始批量生产半导体尖端光刻机的零部件产品(保护半导体电路原膜材料”Pellicle新一代产品)。

据报道，这种CNT薄膜可以实现92%以上的高EUV透射率和1kW以上曝光输出功率的光阻能力。三井化学预计年产能5000张，生产线预计2025年12月完工，可支持ASML下一代高值孔径、高输出EUV光刻机。