5 月 30 随着日消息 DRAM 不断推进小型化，SK 海力士、三星电子等公司致力于新材料的开发和应用。
据 TheElec，SK Hynix 计划在第 6 代（1c 工艺，约 10nm）DRAM 在生产中使用 Inpria 下一代金属氧化物光刻胶（MOR），这是 MOR 首次应用于 DRAM 量产工艺。
消息人士称，消息人士称，SK Hynix 量产的 1c DRAM 有五种极紫外线 (EUV) 层，其中一层将被使用 MOR 画画。他还补充说：“不仅仅是 SK 海力士，三星电子也将追求这种无机 PR 材料。”
查询公开资料了解，Inpria 是日本化工公司 JSR 子公司也是无机光刻胶领域的领导者； MOR 目前被认为是先进芯片光刻的化学放大光刻胶（CAR）下一代产品。
另外，公司自己 2022 多年来一直与之相处 SK Hynix 合作进行 MOR 研究。SK Hynix 此前曾说过，使用 Sn(基)氧化物光刻胶将有助于改善下一代 DRAM 性能和成本降低。
TheElec 报告还指出，三星电子也在考虑这一点 MOR 应用于 1c DRAM，目前三星电子在 1c DRAM 上应用了 6 至 7 个 EUV 层，而美光只适用于 1 层。
