据外媒报道,俄罗斯第一台光刻机已经制造并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)据说,作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,第一台国产光刻机已经组装制造,目前正在测试中,该设备可以保证350nm芯片的生产。什帕克还指出,到2026年,国产光刻机将获得130nm,下一步将是开发90nm光刻机,并继续向下迈进。 此前,俄罗斯表示,计划到2026年实现65nm芯片节点工艺,2027年实现28nm本土芯片制造,到2030年实现14nm国产芯片制造。