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2024北京国际光刻设备及光掩膜技术展览会

2023-10-16
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2024北京国际光刻设备及光掩膜技术展览会

Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024

>>基本信息

时间:2024年7月24-26日

地点:北京国家会议中心

>>展会简介

    微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力,21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。

随着集成电路产业的发展,高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管,推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展,在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下,先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。“2024北京国际光刻设备及光掩膜应用技术展览会”将于7月24-26日在北京国家会议中心隆重举办,欢迎广大相关单位参展、参观!  

>>展会亮点

收集最新的高质量销售资讯,结识高质量买家并达成销售交易。

了解未来生产需求发展全球战略。

与全国代理、经销商构建销售网络。

通过与各地生产商和买家的合作来发掘新的商业机会。

加强公司品牌建设,提高公司的行业知名度。

获得关于最新市场趋势、技术创新、行业最新发展动态以及的相关行业资讯。

>>为何参展

35家合作机构组团参观

形式多样的配套会议及活动,涵盖组团参观、论坛、访谈

全方位海内外渠道营销,线上与线下共同造势

超过300家行业媒体,提供全天候,一站式营销解决方案

稳固老客户,开拓新市场,发现新机遇

>>观众邀请

邀请全国、省、市、各相关科研单位:电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。

>>日程安排

报到布展:2024年07月22-23日 AM8:30-PM19:30

展出时间:2024年07月24日 AM9:30-PM16:45

2024年07月25日 AM9:30-PM16:45

2024年07月26日 AM9:30-PM16:45

>>参展范围

◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等;

◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等;

◆光掩膜、铬版、干版,凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等;

>>联系我们

联系人:李先生

电 话:136 3660 4883

咨询QQ/微信:537402178

邮  箱:sales1@ufiexpo.com

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  • 光掩膜
  • 极紫外光刻
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昶文

公司拥有一批有多年展览行业经验的富有责任感、创新精神、高素质的办展队伍,在展会市场定位、全面策划、整体运作等方面具有丰富的经验及独到之处,积累了丰富的办展实践经验。

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